真空气氛炉的用途
真空气氛炉是一种在气氛保护下对材料烧结的真空电炉,主要用于氮化硅、碳化硅等陶瓷材料在气氛(如N2、Ar、H2)下烧结,也可用于其他材料的吸氮、吸氢反应。气氛烧结炉用石墨或贵金属做发热体,发热体在非氧化性气氛下通过流经的电流发热,在炉体内部产生大量的热量。炉体内部使用碳毡或全金属作为隔热、保温层,炉壁为双层水冷结构,把炉体内散出的热量带走,从而使炉壁温度不会过高。
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